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AG国际APP登录 ASML肯求基于探讨光刻模拟监测雕残效应专利, 用于模拟光刻中的雕残效应

发布日期：2026-05-30 20:46    点击次数：140

国度常识产权局信息领略，ASML荷兰有限公司肯求一项名为“基于探讨光刻模拟监测雕残效应”的专利，公开号CN122122520A，金年会(JinNianHui)体育官网肯求日历为2024年9月。

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专利纲目领略，本文描画一种用于模拟光刻中的雕残效应的要道和系统。基于它们的雕残机灵度采纳图案或切割线以用于监测雕残效应。不错基于（a）雕残图像的空间导数或（b）图案的空间图像的二阶导数笃定雕残机灵度。取得暗意光刻缔造的扫描位置依赖性照耀光瞳详尽的雕残源，AG国际APP登录况兼使用雕残源笃定雕残图像。基于雕残图像的空间导数笃定雕残机灵度意见相干于晶片台调制的导数。使用雕残机灵度意见的导数的特征向量暗意图案。对特征向量进行分组，况兼基于该分组采纳一图案麇集以用于监测雕残效应。

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